La ESAD de Murcia impulsa la internacionalización con Pace University de Nueva York
La Escuela Superior de Arte Dramático de Murcia (ESAD) ha establecido una colaboración con Pace University en Nueva York para promover el intercambio de estudiantes y docentes, enmarcado en el programa Erasmus+ KA171. Desde el año pasado, ambas instituciones mantienen un convenio para fomentar la movilidad académica y compartir metodologías docentes en artes escénicas.
Este acuerdo permite a estudiantes de Murcia realizar estancias en Nueva York y viceversa, así como facilitar la participación del profesorado en periodos de docencia compartida. La iniciativa busca actualizar los procesos formativos y potenciar el estudio comparado de los sistemas de formación actoral y de dirección escénica.
El director general de Formación Profesional, Luis Quiñonero, subrayó que la colaboración internacional reafirma la posición de la ESAD como referente en la región y en el Espacio Europeo de Educación Superior. Además, se espera que esta alianza eleve la calidad de la enseñanza y enriquezca la práctica docente en el ámbito de las artes escénicas.
Recientemente, responsables académicos de la ESAD han participado en un encuentro en Nueva York para consolidar la estrategia de internacionalización. Actualmente, dos alumnas de la Región cursan estudios en la facultad de Film and Screen en Pace University, y en enero, estudiantes neoyorquinas visitaron Murcia para estudiar en la escuela local.
Por otra parte, la ESAD ha abierto el proceso de admisión para el próximo curso, con pruebas de acceso del 10 al 18 de junio y matrícula en julio. Este paso busca fortalecer su presencia y ofrecer nuevas oportunidades a futuros estudiantes en un contexto de creciente colaboración internacional.
La iniciativa refleja una tendencia más amplia en la formación artística en la comunidad, que busca ampliar horizontes y reforzar su competitividad a nivel global, en un momento en que la movilidad académica se convierte en un elemento clave del sistema educativo europeo.